高溫PPL水熱合成反應釜內(nèi)襯

PPL高溫水熱反應釜密封高壓PPL內(nèi)襯消解罐 是為在一定溫度、一定壓力條件下合成化學物質提供的反應器。它廣泛應用于新材料、能源、環(huán)境工程等領域的科研試驗中，是高校教學、科研單位進行科學研究的常用小型反應器。

主要特點：

本水熱合成釜采用優(yōu)質不銹鋼加工而成。釜體與釜蓋密封采用耐用、可靠的線密封結構，密封效果長期穩(wěn)定無泄漏。

釜蓋緊固結構采用均置螺栓、并輔以釜體定位裝置，以利合成釜的開啟與密閉。

本水熱合成釜采用外加熱方式，以縮小體積，并有利多反應釜處于同一反應操作溫度（如將多個反應釜置于烘箱中加熱）

水熱反應釜密封高壓四氟內(nèi)襯消解罐

主要技術指標：

1．工作溫度：≤280℃

2．工作壓力：≤3MPa（表壓）

3．升溫、降溫速率：≤5℃/min

產(chǎn)品規(guī)格：規(guī)格5ml，10ml 15ml，25ml，30ml，50ml，80ml，100ml，150ml，200ml，250ml，300ml，500ml，1000ml另可根據(jù)用戶需求定做。

高溫PPL水熱合成反應釜內(nèi)襯